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纳米光触媒二氧化钛分散机

纳米光触媒二氧化钛分散机不断地从径向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改变流向,与此同时在转子区产生的上、下轴向抽吸力的作用下,又形成上、下两股强烈的翻动紊流。物料经过数次循环,完成分散过程。

  • 产品型号:XMD2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-11-13
  • 访  问  量:1035
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详细介绍

纳米光触媒二氧化钛分散机

 

高剪切研磨分散机XMD2000溶解到纯净水中,或者蒸馏水,去离子水等,做成光触媒水溶液,直接喷涂于墙壁,家居表面,以及汽车室内等可以迅速的捕捉并分解室内的甲醛,苯,氨等有害气体,除味效果好。

纳米材料是指两相显微结构中至少有一相的一维尺度达到纳米级。纳米粒子粒径很小,表面能很大,极易团聚此,所以如何制取纳米粒子本身就是一个非常复杂的技术问题,如何能够使用纳米材料均匀的稳定的分散而不团聚是纳料技术的核心工作,纳米的定义也要在纳米材料以能够实现的功能,体现出纳米效应为主要依据。

影响纳米材料分散要素:

1、分散介质

(1)根据粘度不同,分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。在低粘度介质中,如水和有机溶剂,纳米材料易于分散。中粘度介质如液态环氧树脂、液态硅橡胶等,高粘度介质如熔融态的塑料。

2、分散剂

(1)分散剂的选择,与分散介质的结构、极性、溶度参数等密切相关。

(2)分散剂的用量,与纳米材料比表面积和共价键修饰的功能基团有关。

(3)水性介质中,推荐使用TNWDIS。强极性有机溶剂中,如醇、DMF、NMP, 推荐使用TNADIS。中等极性有机溶剂如酯类、液态环氧树脂、液态硅橡胶,推荐使用TNEDIS 。

3、分散设备

XMD2000进口超高剪切研磨分散机
研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

纳米光触媒二氧化钛分散机

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