热门搜索: XRS2000藿香正气口服液超高速三级均质机 XLC2000特种纤维乳化粉液混合机 XMD2000导电材料纳米研磨分散机 XMD2000花生乳超高速胶体磨 XRS2000皮革水性聚氨酯涂料乳化机 XLC2000结冷胶食品添加剂粉液混合机 XMD2000镍氢电池浆料纳米分散机 XRS2000芳纶沉析纤维高剪切分散机 XMD2000二氧化硅溶胶研磨分散机 XRS2000有机硅润湿剂三级乳化机 XRS2000U​V树脂超高速三级乳化机 XRS2000海藻酸钠超高速均质机 XMD2000氧化铈高速高剪切分散机 XMD2000基质胶原蛋白超高速高剪切​胶体磨 XMD2000脂溶性纤维素超高速分散机 XMD2000中性墨水涂料高速分散机

产品展示/ Product display

您的位置:首页  /  产品展示  /  分散机  /  高剪切分散机  /  XMD2000纳米碳酸钙高剪切研磨分散机

纳米碳酸钙高剪切研磨分散机

纳米碳酸钙高剪切研磨分散机转子速度可以达到44m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒径分布更窄。

  • 产品型号:XMD2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-11-13
  • 访  问  量:974
立即咨询

联系电话:13338684951

详细介绍

纳米碳酸钙高剪切研磨分散机

 

纳米碳酸钙研磨分散机,纳米碳酸钙分散机,纳米碳酸钙分散机是 透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

纳米碳酸钙分散机

 

纳米粉体的团聚是指原生的纳米粉体颗粒在制备、分离、处理及存放过程中相互连接、由多个颗粒形成较大的颗粒团簇的现象。由于团聚颗粒粒度小,表面原子比例大,比表面积大,表面能大,处于能量不稳定状态,因而细微的颗粒都趋向于聚集在一起,很容易团聚,形成团聚状的二次颗粒,乃至三次颗粒,使粒子粒径变大,在每个颗粒内部有细小孔隙。

纳米颗粒的团聚一般分为两种:软团聚和硬团聚。对于软团聚机理,人们的看法比较一致,即,软团聚是由纳米粉体表面分子或原子之间的范德华力和静电引力所致,由于作用力较弱,可以通过一些化学作用或施加机械能的方式来消除。

纳米碳酸钙研磨分散机,纳米碳酸钙分散机,纳米碳酸钙分散机是化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。

研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

纳米碳酸钙高剪切研磨分散机

留言询价

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
微信扫一扫

邮箱:1023587768@qq.com

传真:

地址:太仓市沙溪镇涂松村岳鹿路

Copyright © 2024 太仓希德机械科技有限公司版权所有   备案号:苏ICP备18007963号-2   技术支持:制药网