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液体硅橡胶超高速研磨分散机

液体硅橡胶超高速研磨分散机转子速度可以达到44m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒径分布更窄。

  • 产品型号:XMD2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-11-13
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详细介绍

液体硅橡胶超高速研磨分散机

液体硅橡胶又称双组份加成性硅橡胶。液体硅橡胶是相对混炼型半固态硅橡胶和常见室温硫化单组分硅胶而言的一类有机硅胶,这类胶具有流动性好,硫化快,可以浇注成型可以注射成型。液态硅橡胶又分为自粘型和非自粘型两大类。液态硅胶可以常温固化可以高温固化。高温固化的可以在数秒钟内完成固化过程。

液体硅橡胶分散机,液体硅橡胶研磨分散机,液体硅橡胶分散设备,含有20%气相二氧化硅,高温下和有水存在是会接皮。如何让气相二氧化硅均匀的分散到体系当中,是一个比较大的难点。因为液体硅橡胶本身粘度高,难以流动,再加上气相二氧化硅本身达纳米级粒径,容易团聚难以分散。

传统的批次分散机也就是所谓的插入罐体内的分散设备,难以处理。根本分散不开,导致*后产品分散性差,均匀度低。

所以工程师建议采用管线式分散设备进行处理。主要考虑以下2点:

1、液体硅橡胶一般粘度都比较高,采用批次分散机必然难以分散,而采用管线式分散机的话,只要物料能进入分散机工作腔体,物料就可以*的得到分散,产品均匀度高。而采用管线式分散机必须要解决的问题就是液体硅橡胶的流动性,结合客户案例,如果液体硅橡胶难以流动,可在管线式分散机前段加一台输送泵,确保液体硅橡胶的流动性。

2、液体硅橡胶分散的主要目的,就是将体系中的气相二氧化硅,充分并且均匀的分散。因为气硅本身为纳米级,分散到硅油中容易团聚,所以必须有一个较强的剪切力去打散二级团聚物,再瞬间进行分散,从而得到高品质的液体硅橡胶产品。

综合来看,工程师XMD2000系列研磨分散机,研磨分散机是研磨机(胶体磨)+分散机一体化的设备,先研磨后分散,在纳米级物料分散领域有着广泛的应用,如:纳米白炭黑分散、纳米氧化物分散、锂电池浆料分散、石墨烯浆料分散机、纳米医药混悬液分散等,有着突出的优势。

研磨分散设备的五大特点:

1、*的结构设计:胶体磨头+分散盘定转子,研磨分散一步到位。

2、超高剪切速率:剪切速率是指线速度除以定转子间隙。并不是线速度越大剪切速率就越高,有些国内厂家分散设备线速度很高(转子直接大),而剪切速率却很低,因为他们的定转子间隙很大。而上海I研磨分散机,转速为14000rpm,线速度为44m/s,定转子间隙为0.2-0.3mm,综合剪切速率是国内分散设备的4-5倍。

3、磨头及定转子精密度高:纯,加工精度高,设计完善。

4、博格曼双端面机械密封,将泄漏降至更低,并带有机械密封循环冷却系统,在保证冷却水的前提下,可24小时运行。

5、模块化设计,拆装简单,可在线清洗和在线灭菌。设备各环节都带有夹套,可进行冷却或升温,满足各种不同工艺。

XMD2000进口超高剪切研磨分散机
研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

液体硅橡胶超高速研磨分散机


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