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中试型研磨分散机,专为实验室研发,模拟生产流程,为量产提供可靠的数据论证。该中试型型机器和大型量产机型配置相同,且分散头的种类及相应线速度也相同,中试过程中的工艺参数在量产化之后不要重新调整,而将机器型号升级过程中的风险降到Z低。
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中试型研磨分散机,实验室中试研磨分散机,中试型分散机,中试型研磨机
专为实验室研发,模拟生产流程,为量产提供可靠的数据论证。该中试型型机器和大型量产机型配置相同,且分散头的种类及相应线速度也相同,中试过程中的工艺参数在量产化之后不要重新调整,而将机器型号升级过程中的风险降到zui低。
SGN中试型研磨分散机是在中试型胶体磨的基础上加入了一组分散盘,剪切细化能力要强于高剪切胶体磨。
GMD2000/4中试型研磨分散设备该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)
GMD2000/4的特点:
① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
SGN中试型研磨分散设备的胶体磨头有很高的线速度,以及特殊上深下浅的三级磨头结构,一次处理即可满足细化要求。刀头形状,可以把相对大块的物料进行初步粉碎,以便能顺利通过更细的两级进行细微化研磨。磨头齿列深度为从开始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下浅的齿列结构,相较沟槽是直线,同级的沟槽深度一样的磨头,可以保证物 料从上往下一直在进行研磨。虽和其它产品一样磨头采用三级磨齿,但他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。
GMD2000/4为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到zui低,保证机器连续24小时不停机运行。
GMD2000/4中试型研磨分散设备有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,GMD2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送。
GMD2000研磨分散机标准配置所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢。 特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷。
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