氧化镁在线高剪切研磨分散机

氧化镁在线高剪切研磨分散机,实验室*小型设备：

研磨分散机由1-3个工作腔组成，在马达的高速驱动下，物料在转子与定子之间的狭窄间隙中高速运动，形成紊流，物料受到更强液力剪切、离心挤压、高速切割、撞击和研磨等综合作用，从而达到分散、乳化、破碎的效果。被加工物料本身和物理性质和工作腔的数量以及控制物料在工作腔中停留的时间决定了粒径分布范围及均化、细化的效果和产量的大小。

GMSD2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GMSD2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

SID胶体磨与国内胶体磨的性能比较：

一、转速和剪切速率：

SID胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转    

F=23/0.7X1000=32857 S-1  

F=40/0.7/X1000=57142 S-1                      

国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440 S-1

通过转速比较可知，这是粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍

 二、胶体磨头和间距：

SID胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，速模块，胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。

间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工

国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差

三、机械密封：

SID胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至*低，可24小时不停运转

国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

四、清洗：

SID胶体磨，立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏,符合流体流动原理，具有CIP/SIP在线清洗，在线杀菌功能，无需拆卸，机器设计立式结构符合流体原理，清洗更简便

国内胶体磨，卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，

通常情况，需要拆卸机器进行清洗

胶体磨内部结构及分析：

粉碎室设有三道磨碎区，为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。

 研磨分散机du有的优点

◆ 处理量大，适合工业化在线连续生产；
◆ 粒径分布范围窄，匀度高；
◆ 省时、高效、节约能源；
◆ 精密铸造的整体式机架和经精密动平衡测试的每道转子，确保整机运行噪音低，运转平稳；
◆ 消除批次间生产的品质差异；
◆ 物料100%通过粉碎分散剪切；
◆ 具有短距离、低扬程输送功能；
◆ 使用简单，维修方便；
◆ 可实现自动化控制；
◆ 集装式机械密封，保证物料无泄漏；
◆ 单机处理量从1～120m3/h。

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