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混悬液研磨分散设备

混悬液研磨分散设备是专注于混悬液体系的高效加工设备,核心通过研磨介质撞击与高剪切力协同作用。能打破物料团聚颗粒,实现微米至纳米级细化,提升混悬液均匀性与稳定性,避免分层沉淀。适配医药、化工、食品等行业,满足不同粘度混悬液加工需求,操作可控,是保障混悬液产品品质的关键设备。

  • 产品型号:GMD2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-11-11
  • 访  问  量:22
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详细介绍

混悬液研磨分散设备

混悬剂(suspensions)系指难溶性固体药物以微粒状态分散于分散介质中形成的非均匀分散的液体药剂。分散相微粒的大小一般在0.5~10μm之间,小的微粒可为0.1μm,大的微粒可达50μm或更大。混悬剂的分散介质多为水,也有用植物油。混悬剂属于热力学不稳定的粗分散体系。
药物可考虑制成混悬剂的情况为:①不溶性药物需制成液体药剂应用;②药物的剂量超过了溶解度而不能制成溶液剂;③两种溶液混合由于药物的溶解度降低而析出固体药物或产生难溶性化合物;④与溶液剂比较,为了使药物缓释长效。⑤与固体剂型比较,为了加快药物的吸收速度,提高药物的生物利用度。⑥固体剂型胃局部刺激性大的情况,可考虑用混悬剂。但对于毒剧药物或剂量太小的药物,为了保证用药的安全性。则不宜制成混悬剂应用。

混悬液研磨分散设备

混悬剂的质量要求是:药物本身化学性质应稳定,有效期内药物含量符合要求;混悬微粒细微均匀,微粒大小应符合该剂型的要求;微粒沉降缓慢,口服混悬剂沉降体积比应不低于0.90,沉降后不结块,轻摇后应能迅速分散;混悬剂的粘度应适宜,倾倒时不沾瓶壁;外用混悬剂应易于涂布,不易流散;不得有发霉、酸败、变色、异臭、异物、产生气体或其他变质现象;标签上应注明“用前摇匀"。
混悬剂一般为液体药剂,也包括一种干混悬剂。它是将难溶性药物与适宜辅料制成粉末状或颗粒状药剂,临用前加水振摇即可分散成混悬液。其主要是有利于解决混悬剂在保存过程中的稳定性问题,并可简化包装,便于贮藏和携带。


混悬剂的制备应使固体药物有适当的分散度,微粒分散均匀,混悬剂稳定,再悬性好。混悬剂的制备方法有分散法和凝聚法。
1.分散法将固体药物粉碎、研磨成符合混悬剂要求的微粒,再分散于分散介质中制成混悬剂。小量制备可用研钵,大量生产时可用分散机、胶体磨 高压均质机 研磨分散机等机械。
分散法制备混悬剂要考虑药物的亲水性。对于亲水性药物如氧化锌、炉甘石、碱式碳酸铋、碳酸钙、碳酸镁、磺胺类等,一般可先将药物粉碎至一定细度,再采用加液研磨法制备,即1份药物加入0.4~0.6份的溶液,研磨至适宜的分散度,zui后加入处方中的剩余液体使成全量。加液研磨可用处方中的液体,如水、芳香水、糖浆、甘油等。此法可使药物更容易粉碎,得到的混悬微粒可达到0.1~0.5μm.对于质重、硬度大的药物,可采用“水飞法"制备。“水飞法"可使药物粉碎成极细的程度而有助于混悬剂的稳定。

混悬液研磨分散设备


GMD2000研磨机有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,GM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。

GMD2000研磨机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。

混悬液研磨分散设备选型表:

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。


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