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光触媒高速研磨分散机

光触媒高速研磨分散机,应对纳米级物料的分散,研发出新型设备,高剪切研磨分散机,将胶体磨和分散机一体化的设备,纳米级浆料进入研磨分散后,先进行研磨将团聚体打开,然后再经过分散工作组,进行分散,避免再次团聚。

  • 产品型号:GMD2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-11-17
  • 访  问  量:11
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详细介绍

光触媒高速研磨分散机

光触媒是一种以纳米级二氧化钛为代表的具有光催化功能的光半导体材料的总称。


光触媒材料主要有纳米TiO2、、CdS、WO3、Fe2O3、PbS、SnO2、ZnS、SrTiO3、SiO2等,2000年以来又发现一些纳米贵金属(铂、铑、钯等)具有更好的光催化性能,但由于其中大多数易发生化学或光化学腐蚀,而贵金属成本则过高,都不适合作为家居净化空气用光催化剂。


在所有的光触媒材料中,纳米TiO2不仅具有很高的光催化活性,且具有耐酸碱腐蚀、耐化学腐蚀、无毒等优点,价格也适中,具有较高的性价比,因而市场上大多使用纳米二氧化钛作为主要原材料。 

光触媒高速研磨分散机

对于纳米级物料的分散,容易出现团聚的现象,纳米二氧化钛的分散也不例外。团聚是指原生的纳米粉体颗粒在制备、分离、处理及存放过程中相互连接、由多个颗粒形成较大的颗粒团簇的现象。由于团聚颗粒粒度小,表面原子比例大,比表面积大,表面能大,处于能量不稳定状态,因而细微的颗粒都趋向于聚集在一起,很容易团聚,形成团聚状的二次颗粒,乃至三次颗粒,使粒子粒径变大,在每个颗粒内部有细小孔隙。


纳米颗粒的团聚一般分为两种:软团聚和硬团聚。对于软团聚机理,人们的看法比较一致,即,软团聚是由纳米粉体表面分子或原子之间的范德华力和静电引力所致,由于作用力较弱,可以通过一些化学作用或施加机械能的方式来消除。


应对纳米级物料的分散,研发出新型设备,高剪切研磨分散机,将胶体磨和分散机一体化的设备,纳米级浆料进入研磨分散后,先进行研磨将团聚体打开,然后再经过分散工作组,进行分散,避免再次团聚。


1、主轴转速:0-14000rpm;

2、特殊结构:初级为磨头结构,第二级为分散盘结构;

3、线速度;0-44m/s;

4、处理量:0-10000L/H;

5、材质:与物料接触部分均为316L不锈钢;

光触媒高速研磨分散机

光触媒高速研磨分散机设备选型:

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。


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