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氢氧化镁阻燃剂分散机,是将胶体磨和分散机一体化的设备,先研磨后分散机,因为氢氧化镁分散到水中或者溶剂当中,会形成二级团聚体,软团聚。需要先将团聚体打开再进行分散。SID研磨分散机二级工作组,转速高达14000rpm,剪切力强,分散更che底。
产品型号:GMSD2000
厂商性质:生产厂家
更新时间:2025-11-18
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氢氧化镁阻燃剂分散机
随着高分子材料工业的发展,塑料、橡胶、纤维等合成高分子材料越来越广泛的用于建筑、化工、军事及交通等领域。但大部分高分子材料均易于燃烧,在很多应用领域中,需要添加阻燃剂以降低其燃烧性及燃烧速度,从而达到预防火灾、减缓火势蔓延的密度。近年来,高分子阻燃技术受到全球性的关注阻燃剂以及成为jin此于增塑剂的第二大高分子材料用助剂。
作为重要的无极阻燃剂产品,氢氧化铝和氢氧化镁由于环境友好、阻燃性强而倍受人们青睐。与氢氧化铝相比,氢氧化镁具有热稳定性高、成炭效率高和降酸能力强等特点。可以广泛的应用于聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯及不饱和树脂等高分子材料的阻燃和消烟。

目前,氢氧化镁阻燃剂的超细化、纳米化是主要的研究方向。在高分子材料的加工温度下,氢氧化镁都是以颗粒状存在于体系中,一般而言,填充量相同时,氢氧化镁的颗粒越细,其分散越均匀,阻燃效果越明显,对材料物理力学性能的负面影响越小,甚至还会起到刚性粒子增塑增强的效果。
然而,要获得超细的氢氧化镁助燃剂混悬液就必须使用高品质的分散设备,传统的分散设备,一方面无法将氢氧化镁浆料进一步细化,另一方分散效果不佳。上海SGN结合多家阻燃剂厂家,可知,采用SGN的GMSD2000系列研磨分散机对氢氧化镁浆料进行进一步的研磨和分散,粒径更小,分散更均匀。
SID研磨分散机是将胶体磨和分散机一体化的设备,先研磨后分散机,因为氢氧化镁分散到水中或者溶剂当中,会形成二级团聚体,软团聚。需要先将团聚体打开再进行分散。SID研磨分散机二级工作组,转速高达14000rpm,剪切力强,分散更che底。
GMSD2000系列研磨分散设备是SID公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

氢氧化镁阻燃剂分散机设备选型表:
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。 | |||||
