热门搜索: GM2000多潘立酮混悬液胶体磨 GRS2000纳米级三级乳化机 GMD2000菌丝体胶体磨 GMD2000工业研磨分散机 GMD2000纳米盐树脂分散机 GMD2000混悬液分散机 GM2000化工研磨分散机 GMD2000混悬剂胶体磨 GMD2000改性机油研磨分散机 GRS2000纳米在线超高速乳化机 GM2000凝胶胶体磨 GM2000牛脾脏匀浆液胶体磨 GM2000化工胶体磨 GRS2000超细高速均质机 GMD2000膨胀石墨分散机 GMD2000人造石墨分散机

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  • XMD2000益生菌混悬液高剪切胶体磨

    益生菌混悬液高剪切胶体磨具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

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    2025-09-06

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  • XMD2000多潘立酬混悬液纳米胶体磨

    多潘立酬混悬液纳米胶体磨具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

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  • XMD2000酶改性大豆磷脂超高速胶体磨

    酶改性大豆磷脂超高速胶体磨具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

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  • XMD2000枫香脂芸香浸膏胶体磨

    枫香脂芸香浸膏胶体磨由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能,使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用,形成悬浮液(固/液),乳液(液体/液体)和泡沫(气体/液体)。

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    2025-09-06

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  • XMD2000纳米核酸导向药物均质胶体磨

    纳米核酸导向药物均质胶体磨转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化分散的效果。

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  • XMD2000负载型催化剂纳米胶体磨

    负载型催化剂纳米胶体磨转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化分散的效果。

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  • XMD2000铝镁混悬液纳米超高速胶体磨

    铝镁混悬液纳米超高速胶体磨转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化分散的效果。

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  • XMD2000纳米纤维素均质胶体磨

    纳米纤维素均质胶体磨定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

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    2025-09-06

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