产品名称:纳米混悬液超高速胶体磨

更新时间:2020-08-27

产品型号:XMD

产品报价:

产品特点:纳米混悬液超高速胶体磨具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

XMD纳米混悬液超高速胶体磨的详细资料:

品牌SID/希德产地进口
产品新旧全新结构类型立式
产品大小中型自动化程度全自动
分类多功能胶体磨应用领域机械,制药,食品,化工

纳米混悬液超高速胶体磨

纳米混悬液均质机,混悬液均质机,超高速均质机,Api混悬液均质机、紫杉醇纳米混悬液均质机、酮洛芬纳米混悬剂均质机、伊曲康唑纳米混悬凝胶均质机、塞来昔布纳米混悬剂均质机、布地奈德吸入用混悬液均质机是 均质化是混合不同物质以得到均一混合物的过程。均质化主要应用于互不相溶的及几乎不能或者完全不能溶混的组分。

纳米混悬液均质机,混悬液均质机,超高速均质机,Api混悬液均质机、紫杉醇纳米混悬液均质机

纳米混悬特点:

纳米混悬剂是“纯的”纳米药物粒子的胶态分散体系,与传统意义上基质骨架型纳米体系不同,纳米混悬剂无需载体材料,它是通过表面活性剂的稳定作用,将纳米尺度的药物粒子分散在水中形成稳定的分散体系。

由于纳米混悬剂的特性,其在各种给药途径中都体现出独特的优势:如处方简单、制备快速、有利于降低活性化合物的筛选成本、提高药物和生物利用度,摒除附加成分造成的刺激性和毒副作用以及较低的给药体积等。

纳米混悬剂的制备:

纳米混悬剂的制备主要有两个方面,即处方筛选和工艺优化。处方筛选主要是选择表面活性剂的种类及用量,以提高产品的长期稳定性。工艺优化是通过调整生产工艺和高压均质机的压力和循环次数等参数,获得理想的粒径分布

纳米混悬液的制备方法主要有:碾磨法、超声法和均质法。前两种制备方法都有碾磨介质或者金属残留,而均质法的金属残留量低,并易于工业化生产

接均质法:

直接均质法是利用超高速均质机的造成的空化和气穴效应,将微粉化的药物颗粒进一步粉碎为纳米尺度的粒子,同时降低药物粒径的多分散性。采用直接均质法可避免有机溶剂的加入,适用于既难溶于水也难溶于油的药物,而且工艺的重现性比较好。产品的粒径是由药物本身的硬度、均质的剪切以及循环次数决定。通过调整超高速均质机的转速和循环次数可以得到合适的粒径分布。

应用案列:

Api混悬液、紫杉醇纳米混悬液、酮洛芬纳米混悬剂、伊曲康唑纳米混悬凝胶、

塞来昔布纳米混悬剂、布地奈德吸入用混悬液

设备特点:

互补进料、压力重叠平稳;双柱塞高压实现、料液精细度高、PID峰值分布较窄;高压双重破碎、悬浮液稳定、可实现长时间不分层。


研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

纳米混悬液超高速胶体磨

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