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二氧化硅消光粉高速胶体磨

二氧化硅消光粉高速胶体磨定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

  • 产品型号:XMD2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-11-13
  • 访  问  量:1732
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详细介绍

二氧化硅消光粉高速胶体磨

光用二氧化硅胶体磨,二氧化硅消光粉胶体磨,消光粉湿法胶体磨,微纳米二氧化硅胶体磨,粒度均匀超微消光粉胶体磨,管线式高速胶体磨,化工用消光粉胶体磨,立式分体消光粉胶体磨

二氧化硅消光粉外观为白色分散性粉末状或颗粒状,广泛应用于涂料工业。通过对其粒径大小、粒径分布和表面性能的控制,消光粉能够为不同的涂料和印刷油墨提供出色的哑光效果。消光粉具有很高的消光效率和爽滑的表面手感,平均粒径小且集中。

在传统胶体磨基础上改进,不仅使转速由原来的3000转提升到了14000转,甚至是21000转的超高转速,细碎效果更好,作用效率更快,同时在结构是除了原本有的细碎研磨功能以外,更增设了高速离心分散功能,使物料在细碎过后能够更加稳定的分散,不分层,不沉淀。 改进型胶体磨依靠定转子间间隙(间隙可调)使物料在通过研磨区域使受到强大的机械力、液力剪切、高频振动等多重力的物理作用,被高效快速的剪切剥离、分散、粉碎,随后进过第二级高速剪切分散盘再一次剪切细化分散、匀化,达到物料超细粉碎和分散匀化的效果。

1、耐有机溶剂、耐腐蚀; 
2、材质为316L不锈钢; 
3、设备定转子(研磨分散工作腔体)间间隙可调,粒度可控; 
4、设备整体机身夹套设计,高转速产生的热量可以通过外接冷却设备进行控温; 
5、主轴与电机分体设计,用户可根据需要选择适当的转速; 
6、设备为变频调速,可通过变频控制柜合理准确的调节设备转速; 
7、可灵活设计生产过程中的特殊需求(设备表面光洁度、真空、防爆、设备材质); 
8、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验,无需重新调整实验数据,程度降低了风险 

研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

二氧化硅消光粉高速胶体磨

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