产品名称:碳酸氢钠注射液均质胶体磨

更新时间:2020-11-13

产品型号:XMD2000

产品报价:

产品特点:碳酸氢钠注射液均质胶体磨定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

XMD2000碳酸氢钠注射液均质胶体磨的详细资料:

品牌SID/希德产地进口
产品新旧全新结构类型立式
产品大小中型自动化程度全自动
分类分体式胶体磨应用领域机械

碳酸氢钠注射液均质胶体磨

碳酸氢钠注射液是临床上调节体内酸碱平衡的电解质液体,是纠正酸中毒的药物。其作为国家基本药物307种中调节酸碱平衡的重要临床用药之一,为临床常见的急救药品。现有的碳酸氢钠注射液通常使用依地酸二钠(EDTA-2Na)和依地酸钙钠(CaEDTA)作为络合剂,用于络合药液中的Ca2+、Mg2+和其它金属离子。但由于碳酸氢钠注射液中存在微量的CO/—离子,加入依地酸钙钠易形成碳酸钙,从而使可见异物不符合规定。而处方中若EDTA量过高,会与血液及骨胳中的钙形成水溶性螯合物,被排出体外,引起低血钙症或骨钙流失。

碳酸氢钠注射液的制备方法包括如下步骤:向调配罐内注入总配置量309^40%的注射用水,控制水温为2(T35°C,优选为2(T30°C,更优选为25~30°C ;充入C02气体至饱和;向注有注射用水的调配罐内投入碳酸氢钠,搅拌,使投入的碳酸氢钠充分溶解;使用10%的NaOH溶液调节pH值至7.40~8.50,优选为7.40~8.00,更优选为7.40~7.70 ;继续向调配罐内投入注射用水,至标准配定,此过程中液温应控制在2(T35°C ;搅拌分散药液充分至一段时间,使药液含量均匀;除菌过滤;灌装。
其中,除菌过滤采用两级过滤,第I级过滤器孔径为0.22 y m ;第2级过滤器孔径为0.22 ii m ;药液除菌过滤期间药液温度应保持在2(T35°C的范围内。

混悬液中的微粒大小是不均匀的,大的微粒总是迅速沉降,细小微粒沉降速度很慢,细小微粒由于布朗运动,可长时间悬浮在介质中,使混悬液长时间地保持混悬状态。制备混悬液时,应使混悬微粒有适当的分散度,粒度均匀,以减小微粒的沉降速度,使混悬液处于稳定状态。传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨,转速只有3000rpm,生产出来的悬浮液颗粒较粗,静置一段时间容易产生絮凝,影响药效和使用,为此有医药厂家在考察了国内的设备之后,放弃了具有极度价格优势的国内设备,来询问低能耗、高转速、极精密定转子、研磨细的希德机械高速胶体磨

该设备转速达到14000RPM,这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。(转速是普通分散设备3-4倍,研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍,这样研磨的细度更小,效果更好)混悬液胶体磨XM2000三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。

研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

 

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

碳酸氢钠注射液均质胶体磨

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