产品名称:氧化锆陶瓷高剪切胶体磨

更新时间:2020-12-30

产品型号:XMD2000

产品报价:

产品特点:氧化锆陶瓷高剪切胶体磨具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

XMD2000氧化锆陶瓷高剪切胶体磨的详细资料:

品牌SID/希德产地进口
产品新旧全新结构类型立式
产品大小中型自动化程度全自动
分类不锈钢胶体磨应用领域机械

氧化锆陶瓷高剪切胶体磨

陶瓷胶体磨是由二组陶瓷转子,二组陶瓷定子组成,在陶瓷胶体磨泵腔内部转子高速旋转,使陶瓷转子甩出,紧贴陶瓷定子,产生强劲的动能能快速地将粉体分散到液体中,**、快速、均匀地将一个相或多个相分布到另一个连续的相中,通常物料中的各个相是互不相溶的。。使物料在定转子之间微小的空隙中受到剪切、离心挤压、撞击、研磨、高频振荡等综合作用,使物料经过研磨后细度大大提高,再通过适量的添加剂共同作用,使产品快速、均匀、分散、乳化,研磨,避免了原金属胶体磨磨损后效果差缺点,效能比原来有胶体磨提高3倍以上,特别是对金属污染要求特别高的企业,如电子和电池行业,可以达到更高品质产品。

陶瓷胶体磨,包括氧化锆陶瓷胶体磨,氧化铝陶瓷胶体磨,氮化硼陶瓷胶体磨,但是硬度**的是氧化锆陶瓷胶体磨
氧化锆陶瓷胶体磨用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

GMSD2000系列是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GMSD2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,**的转速可以达到14000RPM.所以可以达到更好的分散湿磨效果。
  
陶瓷胶体磨特别适合于那些3、工艺应用

4、应用范围
电子电池:锂电池正极浆料、锂电池负极浆料、电路板基材浆料
纳米材料:超细碳酸钙、白炭黑等纳米材料解聚、纳米粉体应用固-液分散
精细化工:热熔胶、密封胶、胶水、絮凝剂、表面活性剂
生物医药:药膏、软膏、霜剂、注射剂、微胶囊乳剂、填充剂分散 

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

氧化锆陶瓷高剪切胶体磨

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