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混悬液分散机是用于制备混悬液的专用设备,核心通过高速剪切、搅拌或研磨作用,将不溶性固体颗粒粉碎并均匀分散于液体介质中。它能有效打破颗粒团聚,控制粒径分布,减少沉降,大幅提升混悬液稳定性,适配医药、农药等领域的高粘度物料处理。设备支持间歇或连续运行,部分可精准控温,保障下游产品均一性与使用效果。
产品型号:GMD2000
厂商性质:生产厂家
更新时间:2025-10-24
访 问 量:16
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混悬液分散机
硫酸钡混悬液GMD2000系列研磨式分散设备是SID公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

特点:
① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

混悬液分散机设备参数表:
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。 | |||||
