氧化铝催化剂胶体磨

氧化铝催化剂胶体磨

单组分沉淀法：沉淀剂与一种待沉淀溶液作用制备一组分沉淀物。如氧化铝载体的制备反应如下：

    Al3+ + OH-→ Al2O3•nH2O↓             AlO2- + H3O+ → Al2O3•nH2O↓

共沉淀法：两个以上的组分同时沉淀。如低压合成甲醇用的三组分催化剂CuO-ZnO-Al2O3的制备：将这三种待沉淀离子的硝酸盐混合液与Na2CO3并流加入沉淀槽，在强烈搅拌下，在恒定的温度和近中性的条件下，形成三组分沉淀。再经过后续处理得三组分催化剂。

均匀沉淀法：先将待沉淀的溶液与沉淀剂母体充分混合为十分均匀的体系，再改变条件，如调节温度和时间，逐渐提高 PH，体系中逐渐生成沉淀剂，沉淀缓慢进行，制得颗粒均匀、比较纯净的沉淀物。如Al(OH)3的制备。在铝盐溶液中加入尿素溶化混匀，再加热到90~100℃，此时溶液中各处的尿素同时水解，释放出OH-，其反应为：

(NH4)CO3+ 3H2O→2NH4+ + 2OH- + CO2                Al3++ OH- →Al(OH)3↓

超均匀沉淀法：先制成盐溶液的悬浮层（2~3层），再立即瞬间混合成过饱和的均匀溶液，从而得到超均匀的沉淀物。如硅酸镍催化剂的制备，顺次将硅酸钠溶液（密度0.0013 ）、20%的硝酸钠溶液（密度0.0012 ）、含硝酸镍和硝酸的溶液(密度0.0011 )在容器中形成三层→立即搅拌形成过饱和溶液→放置数分钟或数小时，形成均匀的水凝胶或胶冻→自母液分出→水洗、干燥、焙烧→催化剂先驱物。

根据一些行业的特殊要求，SID 在GM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款GMS2000高速胶体磨，转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好，研磨粒径分布更小。

       超高速胶体磨的细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 

       GMS2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

     三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款高速胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

氧化铝催化剂胶体磨设备选型表：