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软胶囊改良型胶体磨

软胶囊改良型胶体磨,的作用力体现在它的剪切力和作用刀头,SID改良型胶体磨,研磨分散机,有一级胶体磨头和一级分散盘,对物料先研磨后分散机,再配合14000rpm的转速,乳液粒径一般可细化至1-2微米,混悬液一般可细化至3-5微米,当然这也要根据具体的物料性质和工艺来定。

  • 产品型号:GM2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-11-19
  • 访  问  量:12
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详细介绍

软胶囊改良型胶体磨

此款医药改良型胶体磨不仅转速高达14000rpm,并且在传统胶体磨的基础上加入了一组分散盘,先研磨后分散,物料粒径更细,更稳定!

软胶囊制剂多用于非水溶性、对光敏感、遇湿热不稳定、易氧化额挥发的药物。它密封严密、用量精确、生物利用度高,药物的稳定性也得到提升,此外还有掩盖不良嗅味的作用。实验证明,口服制剂的生物利用度,以内容物为溶液的软胶囊,混悬液次之,再次为含颗粒的硬胶囊,最差为片剂。

软胶囊改良型胶体磨


近年来,超微粉碎技术逐渐应用到软胶囊领域,通过研究发现,药材经过超微化粉碎后,粉末粒径大小分布均匀,球性度和均质度明显改善,这些细粉较易混悬在水或者溶剂以及植物油当中,质量较为稳定。另外随着软胶囊行业的发展,对于胶囊的内容物的处理,出现的大量的设备,如:胶体磨、均质机、分散机等。这些设备通过对内容物的剪切,从内容物粒径更加细化,粉末分散更加均匀。而太仓希德应对这种情况,研发出了新的设备,改良性胶体磨,该胶体磨结合了高剪切胶体磨和高剪切分散机的特点,将二者一体,形成全新的设备,我们也将它定义为“研磨分散机"。


SID改良型胶体磨,SID研磨分散机,对于软胶囊的生产有着巨大的优势,对于软胶囊内容物的处理十分有效,无论内容物是乳液还是混悬液,都可以将物料充分的细化,提高物料的稳定性和药效。改良型胶体磨的作用力体现在它的剪切力和作用刀头,SID改良型胶体磨,研磨分散机,有一级胶体磨头和一级分散盘,对物料先研磨后分散机,再配合14000rpm的转速,乳液粒径一般可细化至1-2微米,混悬液一般可细化至3-5微米,当然这也要根据具体的物料性质和工艺来定。


GMD2000系列改良型胶体磨,研磨分散设备是SID(太仓)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

   

软胶囊改良型胶体磨

  

软胶囊改良型胶体磨的特点:线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨;定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽;定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离;在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向;高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。



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