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化工高剪切胶体磨

化工高剪切胶体磨,太仓希德高剪切胶体磨采用德国博格曼双端面机械密封,转速高达14000rpm,配合高精密的磨头,在保证冷却水的情况可24小时连续生产,研磨效果好,效率更高。是化工行业尤其是精细化工领域更好的选择。

  • 产品型号:GM2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-11-20
  • 访  问  量:23
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详细介绍

化工高剪切胶体磨

主要参数:

1、胶体磨主轴转速:0-14000rpm;

2、线速度:0-44m/s;

3、磨头材质:与物料接触均为316L,特殊要求可喷涂碳化钨钴或者陶瓷磨头;

4、处理量:0-15000L/H

5、研磨细度:0-10μm,具体根据物料性质及工艺确定。


如何去判定一台胶体磨设备呢?
一、胶体磨的转速,机械设备能力的体现很大一部分取决于设备的转速,也就是通常所说的剪切力。目前国内大多数胶体磨的转速都为3000rpm(如廊坊、温州、南通等),而上海SGN的高剪切胶体磨转速可达14000rpm。

化工高剪切胶体磨


二、磨头结构,相同的转速下如何去比较胶体磨的处理效果,我们可以去判定胶体磨的磨头结构,磨头的精密度越高对于物料的研磨能力就会越强。


三、机械密封,机械密封的选择决定的设备的稳定性和使用寿命,好的机械密封可确保设备24小时连续运行,而差的可能只能运行30min就需要停机。
        
当然影响胶体磨设备效果的因素还有很多,但主要的核心就是以上的三点。

在化工行业有着十分广泛的应用,如:油漆、颜料、染料、涂料、润滑油、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、胶粘剂、洗涤剂、塑料、玻璃钢、皮革、白炭黑等。 


国内胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440S-1

通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍。

二、胶体磨头和间距:

SID胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,胶体模块,胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块,间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工。

国内胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差。

三、机械密封:

SID胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至zui低,可24小时不停运转。

国内胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁。

化工高剪切胶体磨


化工高剪切胶体磨设备选型表:

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。


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