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碳混悬液纳米胶体磨

碳混悬液纳米胶体磨在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。

  • 产品型号:XMD
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-11-12
  • 访  问  量:1492
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详细介绍

碳混悬液纳米胶体磨

纳米碳混悬注射液高剪切胶体磨,纳米碳混悬注射液超高速均质机,纳米碳注射液均质机,医药超高速均质机,纳米碳混悬液均质机 

二、纳米碳混悬注射液的简介
纳米碳为纳米级碳颗粒制成的混悬液,颗粒直径为150nm,具有高度的淋巴系统趋向性,是一种有效的淋巴结示踪剂。由于毛细血管内皮细胞间隙约为20-50nm,毛细淋巴管内皮细胞间隙约为120-500nm,故当纳米碳注射剂到组织内,可迅速进入入淋巴管或被巨噬细胞吞噬后进入毛细淋巴管聚集于淋巴管和淋巴结组织,使淋巴组织得到修缮。

三、纳米碳混悬注射液的制备
纳米碳混悬注射液,是将纳米碳分散到液体介质中,加入辅料聚维酮K30制得的。纳米碳为纳米粉体,分散到液体介质中,会出现团聚现象,难以分散。结合多家客户案例推荐XMD2000系列超高速均质机进行纳米碳混悬注射液的均质分散处理。XMD2000系列超高速均质机,转速可达18000rpm,可以将纳米碳充分分散均质,解决团聚问题,还原原始纳米粒径。另外XMD2000系列高剪切均质机,与物料接触部分都带有夹套可通过介质对物料温度进行严格控制。

四、高剪切力对注射液的作用
高剪切条件下的外用液体制剂,高速通过工作腔定转子间隙,由于转子高速转动,物料在定转子间隙内,高速撞击、剪切等综合效应,将较大的颗粒粉碎成很小的微粒,它们的直径在0.01-2μm范围内,效果好的可达纳米级。这个纯粹的物理过程保持产品原有的活性,与此同时,细化了颗粒,获得相对稳定的注射液。

五、高剪切纳米均质机用于制药行业的优势
1、污染是制药过程很大的风险因素,对于设备良好的清洁可以有效的防止污染的发生。XMD2000从设计上注重卫生要求,采用*设计,便于清洗,对表面进行高质量处理,防止其对制药产生不利影响,该设备还符合CIP和SIP的清洁标准,能更好的实现在线清洗,提高工作效率,确保产品安全。

2、设备更便于生产员工进行操作,物料投入投料口后自动从出料口排出,如果存在稳定的工艺路线,可以直接通过管线与上一工序相连接,则该设备可以实现无人操作,在生产过程中适用性。

3、设计符合制药工业要求,同时满足不同产品对于粒径的要求,在制药的分散混合工艺中应用前景很大。

研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

碳混悬液纳米胶体磨

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