产品名称:氧化铟锡光电应用纳米级分散机

更新时间:2020-09-18

产品型号:XMD2000

产品报价:

产品特点:氧化铟锡光电应用纳米级分散机具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

XMD2000氧化铟锡光电应用纳米级分散机的详细资料:

品牌其他品牌产地进口
产品新旧全新结构类型立式
产品大小中型自动化程度全自动
分散机类型实验室分散机,调速分散机,高速分散机,剪切分散机,乳化分散机,升降分散机,防爆分散机速度类别有级变速(多速),单速,双速,无级变速
物料类型液-液,干粉,膏体,固-液,固体颗粒变速方式减速器变速,变频变速,变速带变速,电磁变速
速度范围400rpm以下,400-1200rpm,200rpm以上分散盘型式平盘锯齿式,三义桨式,碟式
升降形式液压,机械,其他每次处理量1000L
分散轮直径55mm

氧化铟锡光电应用纳米级分散机

ITO导电浆料纳米均质机,ito纳米均质机,是在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用,形成悬浮液(固/液)

ito ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜,通常有两个性能指标:电阻率和透光率作为纳米铟锡金属氧化物,具有很好的导电性和透明性,可以切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线。因此,铟锡氧化物通常喷涂在玻璃、塑料及电子显示屏上,用作透明导电薄膜,同时减少对人体有害的电子辐射及紫外、红外。

在氧化物导电膜中,以掺Sn的In2O3(ITO)膜的透过率zui高和导电性能*,而且容易在酸液中蚀刻出细微的图形,其中透光率达90%以上。ITO中其透光率和阻值分别由In2O3与SnO2之比例来控制,通常SnO2:In2O3=1:9。因为氧化锡之厚度超过200-时,通常透明度已不够好---虽然导电性能很好

对导电浆料的要求,第yi是分散均匀性,如果浆料分散不均,有严重的团聚现象,电池的电化学性能受到影响,如若导电剂分布不均匀,电极在充放电过程中,各处电导率不同会发生不同的电化学反应,负极处可能产生较复杂的  SEI膜,可逆容量减小,并伴有局部的过充过放现象或有可能会有锂金属析出,形成安全隐患;粘结剂分布不均,颗粒之间、颗粒与集流体之间粘结力出现过大过小的情况,过小部位电极内阻大,甚至会掉料,zui终影响整个电池容量的发挥。第二,浆料需要具有良好的沉降稳定性和流变特性,满足极片涂布工艺的要求,并得到厚度均一的涂层,要求电池极片众心的厚度要和边缘处的厚度尽量保持一致,这是导电浆料涂布工艺的难点。

研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

氧化铟锡光电应用纳米级分散机

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