产品名称:负载型催化剂纳米胶体磨

更新时间:2020-09-27

产品型号:XMD2000

产品报价:

产品特点:负载型催化剂纳米胶体磨转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化分散的效果。

XMD2000负载型催化剂纳米胶体磨的详细资料:

品牌SID/希德产地进口
产品新旧全新结构类型立式
产品大小中型自动化程度全自动
分类立式胶体磨应用领域机械,化工

负载型催化剂纳米胶体磨

对于电催化反应来说,析*反应(HER)和氧还原反应(OER)在有前途的清洁能源技术如金属-空气电池,燃料电池和水分离装置等方面已经取得了越来越重要的意义。然而,HER和OER的动力学迟缓严重制约了清洁能源技术的发展。因此,通过使HER的超电势**化,制造能够增强催化效率的活性电催化剂是非常需要的。为了提高能量转换装置的电化学性能,尤其是燃料电池和金属-空气电池的电化学性能,开发具有高电催化性能的低成本非贵金属双功能电催化剂,对HER和OER来说都是至关重要的。

为了避免纳米粒子的聚集和催化活性的降低,开发新型碳载体以促进催化剂的电化学性能也引起了越来越多的关注。碳纳米管(CNTs),碳纳米纤维(CNFs),碳纳米线圈,有序介孔碳(OMCs)和石墨烯等碳材料具有顺序结构和高导电性,可以显着提高Pt基催化剂的性能。

具有优良结构稳定性,电性能和强界面偶联的分层纳米材料通过将碳涂覆的少量层状MoS2纳米片组装在碳稳定的Ti3C2MXene上来制备,表现出非常好的析*反应性能(HER),在酸性溶液中具有正向起始电位,低过电位和长期稳定性。通过相互扩散辅助方法将二*基二甲酸1,4-*二甲酸酯与Ti3C2Tx纳米片的混合材料施加在具有10mA cm-2电流密度的OER中,电势为1.64V,相对于可逆*电极在0.1M KOH中的Tafel斜率为48.2mV dec-1。由于Ti2C与g-C3N4之间有效的协同作用,合成了一种由二维碳化钛(Ti2C)和石墨氮化碳(g-C3N4)组成的新型光催化剂,以提高水**活性。这些研究表明,与原始的Ti3C2Tx纳米片相比,载有电催化活性组分的Ti3C2Tx纳米片显示出更好的电催化性能。

一种负载型催化剂的制备方法,包括以下步骤:

提供载体和催化剂前驱体在溶剂中的混合分散液;将混合分散液采用等离子体进行照射,即得;所述溶剂包括氧源溶剂和水,所述氧源溶剂为醇类化合物;所述催化剂前驱体为可溶于水的过渡金属元素化合物。

所述混合分散液的制备方法包括:将催化剂前驱体溶于水制得催化剂前驱体溶液;将载体分散在氧源溶剂中得到载体分散液;将载体分散液与催化前驱体分散液混匀,即得。

高速剪切均质分散机主要应用于处理大量生成超细悬乳液。由于同时用三个均质头(转子和定子)进行处理,可获得很窄的粒径分布,获得更小的液滴和颗粒,因而生成的混合液的稳定性更好。分散头容易更换,适合于各种不同的应用。不同的机器都有相同的转速和剪切率,这样便于规模扩产。符合CIP和SIP的清洁标准,因此特别适合于食和药品生产

高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是*重要的。根据一些行业特殊要求,希德公司在XR2000系列的基础上又开发出XRS2000超高速剪切均质机。其剪切速率可以超过13,000 rpm,转子的速度可以达到40m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒经分布更窄。由于能量密度极高,无需其他辅助分散设备。

分散机采用德国博格曼双端面机械密封,在保证冷却水的前提下,可24小时连续运行。而普通乳化机很难做到连续长时间的运行,并且普通乳化机不能承受高转速的运行。可以处理量大,运转更平稳,**更方便,适合工业化在线连续生产,粒径分布范围窄,分散效果佳,无死角,物料****通过分散剪切。

研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

负载型催化剂纳米胶体磨

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