纳米研磨机

纳米研磨机

如研磨 纳米氧化铝，纳米氧化锌，纳米氧化铈，纳米氧化铁，纳米氧化铋，纳料ATO合金等产品。纳米金属粉体、碳纳米管、高纯Al2O3、高纯纳米TiO2系列粉体、超活性纳米TiO2催化剂、纳米TiO2液体、纳米TiO2银抗菌剂、纳米高纯ZrO2、超细高纯ZrO2、纳米涂层材料、纳米载银抗菌粉、纳米SiO2、纳米ZnO、光触媒

是SID公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

1  线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

1. 能量传递：电机驱动研磨腔（如卧式 / 立式腔）内的搅拌器（或转子）高速运转，带动研磨介质（氧化锆珠、玛瑙珠等）做剧烈运动，产生动能；

2. 物料细化：高速运动的研磨介质与物料碰撞、剪切，同时物料在介质间隙中受挤压、摩擦，团聚颗粒被破碎、剥离，逐渐细化至纳米级；

3. 精准控质：通过分离装置（如动态分离器）拦截研磨介质，让细化后的物料持续排出，同时可调控转速、介质粒径等参数，保证物料粒径均匀且稳定。

GMSD2000设备参数表：