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  • XMD氧化钴湿法分散研磨机

    氧化钴湿法分散研磨机需要加入液体介质中分散应用,氧化钴+液体介质+分散剂采用XMD2000系列研磨分散机进行研磨分散,解决团聚问题,更均匀的分散,并进一步细化粒径,一般分散后粒径为D90小于1微米,分散效果好,效率高。

    更新时间

    2023-11-12

    厂商性质

    生产厂家

    浏览量

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