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产品展示/ Product display

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  • GM2000实验室研磨机

    实验室研磨机是科研专用小型研磨设备,采用球磨、行星式或剪切研磨技术,可将固体物料细化至微米甚至纳米级别。具有体积小巧、操作简便、研磨精度高、样品损耗小等特点,适配矿石、粉末、生物样本等多种物料,广泛应用于材料、化工、医药等领域的实验研发,为后续分析或制备提供均匀物料。

    更新时间

    2025-11-06

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  • GMD2000树脂乳化纳米级研磨设备

    树脂乳化纳米级研磨设备专攻树脂物料的高效乳化设备,依托高剪切技术与三级分散头设计,可将物料细化至 50-350nm,粒径分布窄且稳定性强。设备结构紧凑、操作便捷,符合清洁标准,支持连续作业与工艺放大,适用于涂料、胶粘剂、化工等领域的研发与量产。

    更新时间

    2025-11-06

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    19

  • GMD2000纳米氧化锌剪切研磨机

    纳米氧化锌剪切研磨机是专用于氧化锌物料纳米级加工的设备,通过高速剪切、研磨与分散作用,将氧化锌颗粒细化至纳米尺度,同时保证颗粒均匀性。它广泛应用于橡胶、涂料、化妆品等领域,能提升产品性能。设备具备细化效率高、粒径可控、运行稳定的特点,适配工业化连续生产需求。

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    2025-11-05

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  • GMD2000研磨乳化机

    研磨乳化机是兼具研磨细化与乳化分散功能的专用设备,通过高速定转子剪切、研磨珠碰撞,同时实现物料颗粒细化与相际混合。​它能破除团聚、细化粒径至微米级,让油水等不相容物料形成稳定乳化体系,适配涂料、化妆品、食品等领域,设备易清洁、参数可调,满足多类产品生产需求。

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    2025-10-29

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  • GMD2000氧化铝陶瓷隔膜浆料研磨机

    氧化铝陶瓷隔膜浆料研磨机通过高剪切胶体磨与分散机协同工作:胶体磨利用定转子高速相对运动(转速可达数千转/分钟),产生强烈剪切、冲击和研磨力,将浆料中团聚颗粒破碎细化;随后分散机进一步打散微小颗粒,实现均匀分散,最终获得粒径达标、稳定性好的陶瓷隔膜浆料。

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    2025-10-17

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  • GMD2000湿法研磨机

    湿法研磨机是物料湿法超细粉碎核心设备,适配涂料、新能源等领域。通过研磨介质(如锆珠)与高速运动部件的冲击、剪切,将浆料中颗粒细化至微米/纳米级。具备温控、变频调速功能,研磨效率高且粒径分布均匀,可连续或批次作业,满足工业化生产对物料细度的严苛要求。

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    2025-10-16

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  • GMSD2000石墨烯剥离研磨分散机

    石墨烯剥离研磨分散机是用于制备高质量石墨烯的关键设备,主要通过机械剪切、空化等作用剥离石墨片层并分散石墨烯。 其工作原理是利用高速旋转的转子与定子产生强剪切力,使石墨混合物在定转子间隙中不断受到撞击、破碎、研磨和分散。同时,部分设备还结合液力旋涡空化技术,通过空泡的崩溃产生高温高压和微射流,进一步剥离石墨片层,得到单层或多层石墨烯。

    更新时间

    2025-10-14

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  • GMSD2000纳米研磨机

    纳米研磨机是新材料制备核心设备,通过研磨腔体内高速运动的研磨介质(如氧化锆珠),对物料产生撞击、剪切与研磨作用,将物料细化至纳米级。可精准控制粒径,获窄分布体系,适配高粘度物料,且具备温控、防污染设计。广泛用于涂料、医药、新能源等领域,助力提升产品性能。

    更新时间

    2025-10-14

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