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产品展示/ Product display

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  • GMD2000树脂乳化纳米级研磨设备

    树脂乳化纳米级研磨设备专攻树脂物料的高效乳化设备,依托高剪切技术与三级分散头设计,可将物料细化至 50-350nm,粒径分布窄且稳定性强。设备结构紧凑、操作便捷,符合清洁标准,支持连续作业与工艺放大,适用于涂料、胶粘剂、化工等领域的研发与量产。

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    2025-11-06

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  • GMD2000纳米氧化锌剪切研磨机

    纳米氧化锌剪切研磨机是专用于氧化锌物料纳米级加工的设备,通过高速剪切、研磨与分散作用,将氧化锌颗粒细化至纳米尺度,同时保证颗粒均匀性。它广泛应用于橡胶、涂料、化妆品等领域,能提升产品性能。设备具备细化效率高、粒径可控、运行稳定的特点,适配工业化连续生产需求。

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    2025-11-05

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  • GMD2000研磨乳化机

    研磨乳化机是兼具研磨细化与乳化分散功能的专用设备,通过高速定转子剪切、研磨珠碰撞,同时实现物料颗粒细化与相际混合。​它能破除团聚、细化粒径至微米级,让油水等不相容物料形成稳定乳化体系,适配涂料、化妆品、食品等领域,设备易清洁、参数可调,满足多类产品生产需求。

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    2025-10-29

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  • GMD2000氧化铝陶瓷隔膜浆料研磨机

    氧化铝陶瓷隔膜浆料研磨机通过高剪切胶体磨与分散机协同工作:胶体磨利用定转子高速相对运动(转速可达数千转/分钟),产生强烈剪切、冲击和研磨力,将浆料中团聚颗粒破碎细化;随后分散机进一步打散微小颗粒,实现均匀分散,最终获得粒径达标、稳定性好的陶瓷隔膜浆料。

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    2025-10-17

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  • GMD2000湿法研磨机

    湿法研磨机是物料湿法超细粉碎核心设备,适配涂料、新能源等领域。通过研磨介质(如锆珠)与高速运动部件的冲击、剪切,将浆料中颗粒细化至微米/纳米级。具备温控、变频调速功能,研磨效率高且粒径分布均匀,可连续或批次作业,满足工业化生产对物料细度的严苛要求。

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    2025-10-16

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  • GMSD2000石墨烯剥离研磨分散机

    石墨烯剥离研磨分散机是用于制备高质量石墨烯的关键设备,主要通过机械剪切、空化等作用剥离石墨片层并分散石墨烯。 其工作原理是利用高速旋转的转子与定子产生强剪切力,使石墨混合物在定转子间隙中不断受到撞击、破碎、研磨和分散。同时,部分设备还结合液力旋涡空化技术,通过空泡的崩溃产生高温高压和微射流,进一步剥离石墨片层,得到单层或多层石墨烯。

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    2025-10-14

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  • GMSD2000纳米研磨机

    纳米研磨机是新材料制备核心设备,通过研磨腔体内高速运动的研磨介质(如氧化锆珠),对物料产生撞击、剪切与研磨作用,将物料细化至纳米级。可精准控制粒径,获窄分布体系,适配高粘度物料,且具备温控、防污染设计。广泛用于涂料、医药、新能源等领域,助力提升产品性能。

    更新时间

    2025-10-14

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  • GMSD2000彩色防伪变色油墨研磨分散设备

    彩色防伪变色油墨研磨分散设备该设备为防伪变色油墨制备核心设备,以高剪切力破除变色剂、颜填料等团聚体,实现纳米级均匀分散。可精准控制粒径与分布,确保树脂充分包裹颗粒,提升油墨色变稳定性、显色清晰度与印刷适配性,适配防伪标签、证书等领域生产需求。

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    2025-10-13

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